光刻机是谁发明的

法国人Nicephore niepce。尽管光刻机发明的时间较早，但并没有在各行业领域之中被使用，直到第2次世界大战时，该技术应用于印刷电路板，所使用的材料和早期发明时使用的材料也已经有了极大区别，在塑料板上通过铜线路制作，让电路板得以普及，短期之内就成为了众多电子设备领域中关键材料之一。

光刻机：

光刻机（Mask Aligner） 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。

A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了；

B半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐；

C自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。