硅的气态氢化物是甲硅烷。
甲硅烷作为一种提供硅组分的气体源,可用于制造高纯度多晶硅、单晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、异质硅、各种金属硅化物。
甲硅烷广泛应用于微电子、光电子工业, 用于制造太阳电池、平板显示器、玻璃和钢铁镀层, 并且是迄今世界上唯一的大规模生产粒状高纯度硅的中间产物。
时间: 2024-09-10 05:54:16
硅的气态氢化物是甲硅烷。
甲硅烷作为一种提供硅组分的气体源,可用于制造高纯度多晶硅、单晶硅、微晶硅、非晶硅、氮化硅、氧化硅、异质硅、各种金属硅化物。
甲硅烷广泛应用于微电子、光电子工业, 用于制造太阳电池、平板显示器、玻璃和钢铁镀层, 并且是迄今世界上唯一的大规模生产粒状高纯度硅的中间产物。